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晶圓翹曲及應(yīng)力測量系統(tǒng)

SKU: FM-SWM

產(chǎn)品介紹

產(chǎn)品簡介:

   1.晶圓全場三維翹曲及納米輪廓測量

   2.晶圓薄膜應(yīng)力測量

   3.晶圓宏觀缺陷及薄膜均勻性成像

檢測對象:

   拋光晶圓(硅、砷化鎵、碳化硅等),

   圖形化晶圓,鍵合晶圓,封裝晶圓

面向行業(yè):

  半導(dǎo)體晶圓生產(chǎn)企業(yè),

  半導(dǎo)體制程工藝開發(fā)

技術(shù)參數(shù)

 技術(shù)參數(shù):

非接觸式全場晶圓翹曲測量

測量對象:拋光晶圓,圖形化晶圓 (圓形,方型,開孔等)

均勻全口徑采樣,最小采樣間隔:0.1mm

檢測口徑 2 - 8 /12 寸全口徑 (可根據(jù)需求調(diào)整)

自動輸出三維輪廓,曲率,薄膜應(yīng)力,以及表面瑕疵

測量無需晶圓調(diào)平,單次測量時間:10-30s (隨采樣間隔變化)

三維翹曲

晶圓翹曲量范圍: 200nm - 10mm (根據(jù)晶圓尺寸)

輪廓測量局部分辨率:20nm

輪廓測量重復(fù)精度:100nm

低頻-高頻翹曲軟件分析

薄膜表面檢測

瑕疵檢測:裂紋,麻點,不均勻

裂紋分辨率:50um (分辨率可根據(jù)用戶需求調(diào)整)

薄膜應(yīng)力測量

測量范圍:2MPa 5000MPa

重復(fù)性:2MPa

相對精度:1%

樣品溫度范圍:室溫—300

測量實例:

1、8 寸圖形化晶圓翹曲三維測量

應(yīng)力測量系統(tǒng)1.jpg 應(yīng)力測量系統(tǒng)2.jpg

 

2、表面瑕疵成像

表面瑕疵成像.jpg

 


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